紫外光清洗机GQX-WF04

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GQX-WF01、WF02、WF03、WF04 GQX-WF01、WF02、WF03、WF04型光清洗机为往返式单机工作，体积小，使用方便，适用于 LCD、OLED、光学薄膜和石英晶体等行业小批量生产和科学研究试验使用。该机采用大小适中的高强度面光源，可根据实际需要选择自动或手动进出，光清洗过程自动控制，光清洗完毕自动送出托盘时伴有蜂鸣提示。该机有较好的光源工作状态监视系统和完善的防光泄漏技术措施。 GQX-WF光清洗机外形尺寸：850×550×940mm。 GQX-WF光清洗机最大处理面积为：500×240mm。紫外光表面清洗和改质技术的先进性 1.光清洗技术是随着当代光电子信息技术发展起来的，光电子产品的高性能、微型化要求表面洁净度越来越高，常规的清洗方法（如水洗、化学溶液洗、超声波清洗等）已不能满足要求，UV光清洗能够达到常规的清洗方法难以达到的高清洁度，而且不存在三废处理问题，有利于环境保护。 2.光清洗是在常温、常压的环境中进行的，是一种非接触式的干法清洗技术。光清洗时被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，因为有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体（CO2、CO、H2O等）从表面消散，随着排风系统抽走，不可能重返被清洗的表面，不会像溶液清洗时发生二次污染。 3.一般情况下，光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。 4.光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。 5.世界上先进工业化国家已经开始将光清洗技术由光电产品向金属、光学、塑料、橡胶等相关产品的生产过程发展，光清洗技术的应用范围十分广阔，具有很强的技术生命力。光清洗技术的应用范围光清洗技术的应用范围十分广泛，目前在现代信息技术行业中使用光清洗技术比较普遍，随着我国工业现代化的发展，光清洗和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。 1.在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力； 2.印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。 3.大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。 4.在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生。 5.在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。 6.磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果更好。 7.石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。 8.在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。 9.彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。 10.敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高。 11.光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。 12.树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。 13.对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余的光刻胶、环氧树脂、焊剂，以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗是十分有效的方法。我公司研制的特种光源产品有100W、90W等多种VUV低压紫外汞灯，能够同时发射185nm和254nm的短波紫外光，我们对该产品的研发先后经过了各种点灯试验考核累计12000多小时，光源性能稳定可靠。VUV低压紫外汞灯的工作寿命确保1000小时以上，光衰率不超过30%，点灯寿命可达2000小时以上，灯管辐照强度完全达到国外同类产品水平，紫外辐射器技术在国内处于领先地位